Каталог товаров

Подписка на новости

Получите актуальные новости о новинках сайта, подписавшись на новостную рассылку.

Контакты

Для связи с сотрудниками нашей компании, напишите или позвоните нам:

8-9195691111

zakaz@avant.pro

Главная » Каталог » Геофизические приборы и каротажные лаборатории » Источники тока » Источник питания «ИП-3МГ» для многомагнетронной СВЧ установки плазмохимического осаждения

Источник питания «ИП-3МГ» для многомагнетронной СВЧ установки плазмохимического осаждения

Источник питания «ИП-3МГ» для многомагнетронной СВЧ установки плазмохимического осаждения - Интернет-магазин промышленного оборудования "Авант",  Шадринск
Купить

Источник питания «ИП-3МГ», предназначен для преобразования переменного трехфазного напряжения промышленной сети в постоянный и генерации тока заданной формы, для питания магнетронов установки плазмохимического осаждения углеродных пленок.

Технические характеристики

Технические параметры                        Ед. изм. / Описание Значение параметров
Напряжение питания В
380+/-10%
Частота питающей сети Гц
50+/-1
Количество выходных каналов
шт
3
Выходное напряжение
кВ
3.5-5
Длительность импульса регулируемая
мкс
t>=100
Длительность паузы регулируемая
мкс
t>=100
Частота импульсов
Гц
100-:-3500
Амплитуда тока в импульсе
А
0.03-2
Ток в паузе регулируется
А
0.03-2
Ток в непрерывном режиме
А
0.03-1
Ток накала (максимальный на канал)
А
11
Управление
С передней панели
 
По интерфейсу RS-485/232
Точность стабилизации тока нормируется в диапазоне и составляет
А


%
30мА-:-2А
0.5
Выходная мощность в импульсном режиме
кВт
30
Выходная мощность в непрерывном режиме
кВт
15
Охлаждение
Воздушное принудительное
 
Размеры габаритные
мм
 
Вес
кг
 

Ток регулируется отдельно в каждом канале. Модуляция в каналах осуществляется по току, глубина модуляции регулируемая от 0 до 100%.
Управление и индикация осуществляется панелью оператора «DELTA»
Похожие товары